洗净液CMP1400S
特性与卖点：高PH值，有效去除有机和无机微粒、低泡、易漂洗，极低金属离子含量。太阳能晶园研磨后的油脂，研磨抛光剂，无机粉尘，适合半导体回路制造、半导体组件、光刻胶显影后、CMP前后处理、CVD前后处理洗净液。
使用方法：1、刷洗、喷淋、超声波
2、浓度：3-30%
包 装：20L/桶
洗净液CMP1406
特性与卖点：高PH值，蓝宝石洗净液，晶园研磨后表面所附著油脂，蜡，研磨抛光剂与粉尘，洗净力佳，螯和力强，低泡易生物分解，低COD，螯合分解力强，低残留，易漂洗，耐硬水。
使用方法：1、刷洗、喷淋、超声波
2、浓度：3-30%
包 装：20L/桶
