导电玻璃是指透明导电氧化物，如氧化铟锡ITO、掺杂氟的SnO2 FTO、氧化锌ZnO、氧化镍NiO、纳米银等，部分为铜、铝、金等材料，以玻璃为基材，通过磁控溅射等方式将导电材料生长在玻璃上的产品，常用于触摸屏、光伏太阳能电池、户外显示、航空航天等诸多领域当中。

导电玻璃在产品成型之前需要对其进行刻蚀加工，形成电路图，光伏行业主要是划线，做成一个个小单元的电极，增大电压，无论哪一个应用领域，都需要对其进行刻蚀加工。目前刻蚀工艺主要分为激光刻蚀、等离子刻蚀、化学刻蚀以及机械划线等几种方式，武汉元禄光电为大家介绍几种刻蚀的方法、优缺点以及重点介绍激光刻蚀机的选型。

化学刻蚀：优点是加工速度快，一次成型，适合大面积加工；缺点是添加剂具有毒性，并且具有一定的污染性，操作流程相对复杂，对掩膜版要求高，不具备超精密微纳结构的加工能力。

等离子刻蚀：超细微精密刻蚀，刻蚀线宽达到纳米级，精度高；缺点是成本高，对使用环境等诸多要素都有极高要求。

机械划线：主要优势是成本低廉；缺点也显而易见，对基材的损伤、线宽控制、精度控制、效果控制都不如其他加工，早期常应用于光伏太阳能划线。

激光刻蚀：分为干法刻蚀和黄光曝光两种，黄光曝光的优势在于一次成型，精度高、刻蚀效果好、精细，缺点是成本相对较高，具备污染性。干法刻蚀是指激光直接入射在材料表面无需任何添加剂，通过高能量的光束汽化材料，形成线路或断路，相比较于其他几种工艺，在导电玻璃行业中可谓星光熠熠，处处优势明显，也是目前整个行业领域内最主流的机器。

激光刻蚀机

激光刻蚀机的主要优点是操作简便，导入CAD或Gerber文件，通过振镜偏转、配合XY轴移动形成大面积的刻蚀成型，无耗材、无污染，刻蚀干净，最小线宽可达到亚纳米级别，目前武汉元禄光电普通振镜扫描方式，导电ITO玻璃最小线宽在3微米，而在实验室内最小可达700nm线宽，特别适合于导电玻璃微纳激光刻蚀。

激光刻蚀机用于导电玻璃行业中主要激光波段为1064/532/355nm纳秒、皮秒激光刻蚀机以及1030/515nm/355nm波段的飞秒激光刻蚀机，根据不同的应用场景需求，配置不同的激光器，并且会根据实际需求选择不同的光学器件，如扫描幅面、扩束倍数、加工面积等条件。

一般来说，激光刻蚀机的参考选型主要参考因素是导电玻璃的材料、幅宽、线宽、线间距要求，至于说材料的厚度一般都是在几百微米范围内，有的甚至只有几个纳米，对于激光刻蚀机来说不难加工，主要还是看热影响范围区域，加工后的线宽、线间距以及线性直线度、加工精度以及误差等影响。

因此确定激光刻蚀机的选择需要明确以上几点，根据需求推荐对应的机器类型，一般来说红外1064纳秒激光刻蚀机主要适用于20微米以上线宽的加工要求，飞秒激光刻蚀机主要适用于多层材料的导电玻璃激光刻蚀，如特殊需求仍需以实验试样为准。