触摸屏通常由透明导电氧化物（TCO）薄膜组成，这些薄膜被划线来形成绝缘电极和互联，这通常使用化学湿法光刻蚀。激光刻蚀技术利用激光直接在透明基板上对薄膜进行刻蚀，通过计算机控制激光光束的移动，激光对薄膜材料进行选择性气化，形成所需要的图形。本项目研究的设备和工艺可以在一个工作周期内同时完成整个模组的ITO和银浆的刻蚀加工，因此减少了加工工序，大大提高加工产品的生产效率。

核心技术：

本项目设备集数控技术、激光技术、软件技术等光机电技术为一体，对传统的化学工艺进行了彻底革新，具有高灵活性、高精度、高速度等先进制造技术的特征。

创新点：

1、通过CCD实现了64X64网格高精度的多点、全自动校正。目前市面上多为3X3或5X5精度的网格，且非自动校正。

2、可完成复杂图形的精细刻线。设备采用固体激光器，激光波长1064nm、532nm、355nm等，适合对导电薄膜与镀层进行精细刻线。

3、加工工序少，提高工作效率。该设备可以在一个工作周期内同时完成整个模组的ITO和银浆的刻蚀加工，减少了加工工序，大大提高加工产品的生产效率。

4、适应性强，不会随着产业发展被淘汰。随着电子行业的发展，、传统的化学刻蚀工艺将不适用于对石墨烯薄膜的刻蚀加工，然而激光刻蚀工艺却是可以轻松完成这项工作的。

技术指标：

1、激光器：固体激光器；

2、激光波长：1064nm、355nm、532nm；

3、激光功率： 10W/20W；

4、刻蚀线宽：＜40μm；

5、刻蚀速度：1200mm/s；

6、加工范围：550mm×550mm；

7、校正方式：64X64网格全自动校正。