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新品速递丨光越科技磁控溅射镀金系列

hth官方来源:光越科技2021-11-15我要评论(0)

磁控溅射镀膜机是一种普适镀膜机,用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系。可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其他化学反应膜,亦可镀铁...

磁控溅射镀膜机是一种普适镀膜机,用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系。可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其他化学反应膜,亦可镀铁磁材料。主要用于实验室制备有机光电器件的金属电极及介电层,以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层。


磁控溅射镀膜机镀膜原理为磁控溅射,相对化学镀膜方式,其优点为膜层附着力更强,焊接后拉力测试大于10N;均匀性更好;化学镀膜在60倍显微镜下可看到明显的针孔、凸起,而磁控溅射没有针孔和凸起。


磁控溅射镀膜方式因生产产品过程中始终保持真空,因此无二次污染。下图为设备实物图。


(磁控溅射镀膜机)


镀膜方式对比:

除了以上优点,磁控溅射镀膜机单纯镀金产能为4万+根/月,且镀膜种类多,含盖所有金属,典型镀层有Cr、Ti、Ni、Au。也可以进行混合镀膜,比如Ni和Au混合、Ti和Au和Cr混合。

磁控溅射镀膜机的优势明显,一直以高功率及保偏器件为产品生产研发导向的光越科技(深圳)有限公司近期引进磁控溅射镀膜机并且经过研发人员的不断验证,完成高精度研磨机项目,磁控溅射镀金系列产品也正式投入生产,产品系列如下:


01、镀金高反玻璃


优势:
  • 金属薄膜质量优 ,耐腐蚀性强;

  • 镀金薄膜均匀性致密,膜层光滑密实,显微镜下观察无针孔;

  • 高牢固度附着力(优于蒸发机),与基片结合度高,镀膜控制精准;

  • 镀膜有效面积:50x50mm ,金靶纯度99.99%。


测试数据如下:

(空气入射5°反射率曲线,测试波段中远红外2000-25000nm)

(空气入射5°金反射率测试曲线,测试波段400-2500nm)

(空气入射45°光谱曲线,测量波段400-2500nm)

金+保护膜(400-20000nm)

(金+保护膜2000-20000nm)


02、金属化蓝宝石窗口片

金属化蓝宝石窗口片是使用铬、镍、金镀于蓝宝石窗口片边缘制作而成的新型窗口片,金属膜边缘可直接焊接或连接到光学机械装配上,达到密封效果。


应用及优势:

  • 应用:光通讯、激光窗口、红外成像系统、医疗设备等。

  • 优势:符合MIL-STD-883可焊性标准;金属化材料可定制:Cr、Ti、Ni、Au等。


03、红外光学窗口



应用及优势

  • 应用:非制冷红外探测器

  • 优势:根据客户定制镀金处理Si基片,Ge基片;1~6.8μm透过率小,同时7.5~14μm的透过率高;可镀制金属化薄膜用于焊接。


04、金属化带纤、金属化光纤

斜面、微透镜、楔形光纤所用的设备为完全自主研发,设备可依据产品结构不同而进行修改。可生产多种要求的光纤。

使用该设备加工出的光纤精度高,角度误差在1°内,尺寸误差控制在1微米内,端面质量好,在400倍端检仪下观察无可见划痕、麻点。

上图-金属化带纤、下图-金属化光纤(左到右依次为楔形、单斜面、锥形、多斜面)

透镜光纤性能对比



参数

光越

市面出售产品

锥角误差

±2.5°

±5°

角度误差

±2.5°

±5°

曲率误差

±1um

±1um

偏心量

±1um

±1.5um

镀层拉力

≥15N

≥10N

镀金光纤性能对比



性能

光越

市面出售产品

镀层拉力

≥15N

≥10N

膜层厚度

约300nm

100~1000nm

单炉装载量

672根/炉

350根/炉

单炉时间

2H/

5H/

备注:

锥角误差主要是指微透镜光纤的圆锥夹角,对于单模,其精度越高,加工曲率的良率就越高。对于多模光纤,锥度的精度越高其耦合效率一致性更好。

角度误差主要是指楔形透镜光纤的夹角,对于其精度越高,加工的曲率的良率就越高。对于多模光纤,锥度的精度越高其耦合效率一致性更好。

曲率精度越高,耦合效率越高。

偏心量越小,透镜光纤的光轴与光纤包层轴线的夹角越小,从而方便耦合调试,提高生产效率。

大拉力可以降低产品使用不当导致的坏损率,对使用环境适应性更强。


抢抓机遇,增创优势

行业的快速发展,产品迭代的速度也越来越快,而光越科技也将保持初心,主攻高功率及保偏器件市场,探索市场动向,为客户提供更符合市场需求的产品。

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