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气体

常见高纯气体的用途和分类

星之球激光来源:科的气体2011-10-28我要评论(0)

高纯气体(High Purity Gases)气体工业名词,通常指利用现代提纯技术能达到的某个等级纯度的气体。对于不同类别的气体,纯度指标不同,例如对于氢,氮,氦,氩而言,通常...

高纯气体(High Purity Gases)气体工业名词,通常指利用现代提纯技术能达到的某个等级纯度的气体。对于不同类别的气体,纯度指标不同,例如对于氢,氮,氦,氩而言,通常指纯度等于或高于99.999%的为高纯气体;而对于氧气,纯度为99.199%即可称高纯氧;对于碳氢化合物,纯度为99199%的即可认为是高纯气体。高纯气体应用领域极宽,在半导体工业,高纯氮,氢,氩,氦可作为运载气,保护气和配制混合气的底气。

  高纯气体根据分子结构的不同可以分为有机高纯气体,和无机高纯气体。

有机高纯气体

1、烷烃类:
  甲烷(CH4)、乙烷(C2H6)、丙烷(C3H8)、环丙烷(cyc-C3H6)、正丁烷(n-C4H10)、异丁烷(i-C4H10)、正戊烷(n-C5H12)、新戊烷(neo-C5H12)、氯甲烷(CH3Cl)、氯乙烷(C2H5Cl)、三氟甲烷(CHF3)、环氧乙烷(C2H4O)、砷烷(AsH3)、磷烷(PH3)、硼烷(B2H6)、硅烷(SiH4)等;
2、烯烃类:
  乙烯(C2H4)、丙烯(C3H6)、丙二烯(C3H4==)、1-丁烯(1-C4H8)、异丁烯(i-C4H8)、反-2-丁烯(t-2-C4H8)、顺-2-丁烯(c-2-C4H8)、1.2-丁二烯(1.2-C4H6)、1.3-丁二烯(1.3-C4H6)、氯乙烯(C2H3Cl)等;
3、炔烃类:
  乙炔(C2H2)、1-丁炔(1-C4H6)、2-丁炔(2-C4H6)、甲基乙炔(C3H4)、乙烯基乙炔(C4H4=≡)等;
4、其他:
  二甲醚(C2H6O)、甲硫醇(CH4S)、熏蒸剂(C2H4O-CO2)等

无机高纯气体
  1、空气(Air)、氢气(H2)、氧气(O2)、氮气(N2)、氩气(Ar)、氦气(He)、氖气(Ne)、氪气(Kr)、氙气(Xe)等;   

2、氨气(NH3)、氯气(Cl2)、二氧化硫(SO2)、一氧化碳(CO)、二氧化碳(CO2)、二氧化氮(NO2)、氧化亚氮(N2O)、氧硫化碳(COS)、氯化氢(HCl)、溴化氢(HBr)、硫化氢(H2S)等;   

3、三氟化硼(BF3)、三氯化硼(BCl3)、四氟化碳(CF4)、四氟化硅(SiF4)、 四氯化硅(SiCl4)、六氟化硫(SF6)等

高纯气体产品的分类
目前, 国内市场的气体产品按其用途可进行如下分类:
1、一般工业用气。包括工业氢气、工业氮气等。
2 、医疗用气。包括医用氧气、麻醉气等。
3、食品工业用气。如液体二氧化碳。
4、 民用燃气。如天然气, 液化石油气等。
5、电子工业用气。如硅烷、磷烷等。
6、仪器仪表用气。如标准气、色谱载气等。
7、其它特殊用途用气。
一般情况下, 1~4 类气体产品的市场需求量很大, 而纯度要求不是很高, 主体成分含量通常在9915% 以下。
5~ 7 类气体即所谓的特种气体, 其特点是品种繁多, 市场需求量较小, 纯度要求高, 对其所含的杂质的种类和数量有着严格
的限定。
不同类别的同一种气体, 质量要求差异很大。

序号

气体名称

纯度/%

主要用途

氮气N2

≥99.99

化工、冶金、电子工业

1#p#分页标题#e#

纯氩Ar

≥99.99

冶炼、切割、焊接、电子工业

2

高纯氩Ar

≥99.999

电子管、特种灯泡、真空技术

3

纯氦He

≥99.99

电子工业、潜水呼吸

4

高纯氮N2

≥99.999

科研、电子、机械行业、色谱仪、载气

5

纯氢H2

≥99.99

金属冶炼、焊接、国防工业

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高纯氢H2

≥99.999

电子工业、石油化工、色谱仪、载气

8

高纯氦气He

≥99.999

色谱仪载气、电子工业等

9

工业氧O2

≥99

钢材焊接、火焰加工

10

高纯氧O2

≥99.95

标准气体的制备、集成电路、科学研究

11

工业氢H2

≥99

石油、油脂加氢、人造宝石、石英玻璃制造、金属切割

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纯氙Xe

≥99.99

电光源工业、医疗、电真空、激光行业

13

高纯氙Xe

≥99.999

14

纯氪Kr

≥99.99

电光源工业、电真空工业

15

高纯氪Kr

≥99.999

16

纯氖Ne

≥99.99

电光源工业

17

液体二氧化碳CO2

≥99.9

化工、焊接、制冷、化纤、农业、食品添加剂

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高纯二氧化碳CO2

≥99.999

标准气体的制备

一氧化碳CO ≥99.9 金属冶炼、渗碳、标准气及混合气制备

20

硫化氢H2S

≥99.9

标准气制备、等离子干刻

22

甲烷CH4

≥99.9

低温液体洗涤剂标准气及混合气制备

23

乙炔C2H2

≥99

金属焊接、切割、加热燃料、有机产品原料

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丙烷C3H8

≥99.9

石油化工、医学检验、标准气体的制备

25

乙烯C2H4

≥99.9

乙烯、丙烯成分分析标准气体的制备

26

丙烯C3H6

≥99.9

化工合成、焊接、燃烧等

27

乙硼烷B2H6

≥99.995

半导体器件制造中的重要P型掺杂源

28

磷烷PH3

≥99.999

半导体器件制造中的重要N型掺杂源

29#p#分页标题#e#

砷烷AsH3

≥99.999

N型掺杂剂

30

硅烷SiH4

≥99.999

用于制备高纯多晶硅



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