如果大量原子处在高能级E2上，当有一个频率=（E2-E1）/h的光子入射，从而激励E2上的原子产生受激辐射，得到两个特征完全相同的光子，这两个光子再激励E2能级上原子，又使其产生受激辐射，可得到四个特征相同的光子，这意味着原来的光信号被放大了。这种在受激辐射过程中产生并被放大的光就是激光！

激光打标机上的模块所发出的是部分能量的光子，其原理就是里面的二极管阵列对激光棒进行泵浦，实现粒子反转（就像水泵抽水一样），当超过阈值时，高能级的粒子就会自动跃迁到低能级，发出光子（能量守恒）。

全反镜、半反镜所形成的是一个谐振腔，光子在谐振腔里面无限受激放大形成高能量激光。由谐振腔、激光工作物质（激光泵）、泵浦源（二极管阵列）才真正组成一个激光发射装置（这里的激光工作物质、泵浦源都集成在模块里面）。

当激光器发出2hλ时，经过半反镜后，发出了hλ，反射了hλ，反射经过激光器，激发出hλ后变成2hλ，2hλ再通过全反再次经过激光器（主要是激发激光棒里面的高能级光子）激发出2hλ，此次从激光器发出的是4hλ（用来激发的光子是不会消失）。就是这样一个过程让能量无限放大，就形成了高能量的激光！从理论上讲，这个光束的强度可以到无穷，但是实际不会，因为我们输入激光器的能量是一定的（也就是因为你提供家用的电只能让泵浦源产生一定能量，不能让更多的粒子实现粒子反转，通俗的讲就是你水泵的马力不够）。

前面用的是半反镜（就是反射一半的激光回去），激光就是由若干聚在一起、传播的方向都一致光子组成。微观的来看，就是半反镜反射一个光子回去，这个光子呢，经过激光器的时候，从激光器中撞一个光子出来（激发），那么激光器的另一头出来两个光子（用来撞击的光子不会停留在激光器里面，这个不能用物理中的力学来跟你解释）。两个光子再由后面的全反镜全部反射回去，再次经过激光器又可以撞出两个光子，变成了四个光子，就这样一个过程是不是就把激光的能量放大了四倍？前后两块镜片，就是起放大激光的作用，因为你所说的激光器所发出的激光能量还是很小的！

激光器的功率是固定的，选着全反半反只能适当的让同一电流下激光功率稍微变大一点，一般全反选择90%以上的（越高越好，好像没有100%的），半反好像是30%左右的吧。具体如何去判断它的反射率，得去找做镜片的人了，毕竟市场都是一分钱一分货嘛！