申报项目：

大尺寸深紫外单晶氟化钙（φ350）

主要用途：

半导体光刻系统镜头材料；光学窗口；基质晶体材料，透镜棱镜等光学元件

“专”：

大尺寸深紫外单晶氟化钙具有透光范围宽、应力双折射低、折射率均匀、机械性能稳定、不潮解、抗辐射损伤能力强等优点。

“特”：

透过范围/μm 0.13-10.0

折射率（0.13mm~10mm） 1.6921~1.3161

密度/g·cm-3 3.18

熔点/℃ 1360

解理面 (111)

膨胀系数/℃-1 18.85×10-6

热导率/Wm-1K-1 9.71

克氏硬度/kg*mm-2 158.3

弹性系数 C11=164;C12=53;C44=33.7

杨氏模量/Gpa 75.79

溶解度/ g/100gH2O 0.0017@20℃

“新”：

氟化钙晶体由于具有优异的抗激光损伤性能和深紫外波段透过特性,被认为将取代石英晶体成为光刻机光源的主要光学元件。 因此将氟化钙晶体的研究主要集中在生长更大直径单晶、通过退火处理降低应力双折射、提高光学均匀性等几个方面，首量取得了突破性的进展。