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太阳能工艺

晶硅太阳能电池激光刻槽设备

星之球科技来源: 新浪财经2012-11-01我要评论(0)

晶硅太阳能电池激光刻槽设备 刻线线宽: 12-30m,3m 刻线深度: 2-5m,2m 刻线速度: 可调,最大4s/片 直线度: 20m 工作台重复定位精度:10m 额定输入电压: 三相380VA...

晶硅太阳能电池激光刻槽设备

刻线线宽: 12-30μm,±3μm

刻线深度: 2-5μm,±2μm

刻线速度: 可调,最大4s/片

直线度: ±20μm

工作台重复定位精度:±10μm

额定输入电压: 三相380VAC,50Hz/60Hz,带保护地线

冷却方式: 水冷

加工范围: 125×125mm、156×156mm

应用领域:

专用于晶硅太阳能电池选择性扩散

设备特征:

六工位全自动工作平台,加工速度快

操作简单,维修费用低

软件自动控制

性价比高

样品展示:

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