阅读| 订阅
阅读| 订阅
半导体/PCB

EUV 技术被提名 2020 年德国未来奖

星之球科技来源:国际工业激光商情2020-10-15我要评论(0)

极紫外光刻(下称EUV光刻)技术使大多数智能手机和自动驾驶成为可能,这项世界领先的制造技术提升了德国甚至欧洲在全球半导体领域中的地位。从左至右: Peter Kürz 博...

极紫外光刻(下称EUV光刻)技术使大多数智能手机和自动驾驶成为可能,这项世界领先的制造技术提升了德国甚至欧洲在全球半导体领域中的地位。


1602749603568680.jpg

从左至右: Peter Kürz 博士, Michael Kösters 博士, Sergiy Yulin 博士


9月9日,德国联邦总统办公室公布了2020年德国未来奖(DeutscherZukunftspreis2020)入围名单⸺一种利用极紫外光刻技术来提升微芯片生产水准的技术,蔡司、通快和来自耶拿的弗劳恩霍夫应用光学与精密机械研究所(FraunhoferIOF)均参与了这项技术的研发工作。蔡司半导体事业部PeterKürz博士、通快半导体制造激光系统有限责任公司MichaelKösters博士以及弗劳恩霍夫研究所的SergiyYulin博士是该项目的主要负责人。


功能更强大更节能和更具成本效益的芯片


世界上唯一的EUV光刻机制造商是荷兰阿斯麦公司(ASML),该公司作为集成商设计了整个系统的体系结构,尤其是EUV源。这些机器的关键部件是来自通快的高功率激光器(用于EUV光源)和蔡司的光学系统。EUV代表“极端紫外线”,即具有极短波长的光。利用这种技术,可以生产出比以往任何时候都更强大、更节能和更具成本效益的微芯片。毕竟,如果不进一步大幅提高计算能力,就无法实现成功的数字化。


如今,智能手机地运算性能相比1969年首次登陆月球时设备已经有了数百万倍的提升,仅仅是指尖大小的微芯片就能实现手机任何操作要示,像这样的一块微芯片包含超过100亿个晶体管。最新一代芯片的生产是基于EUV灯的使用,它克服了以往技术上的限制。从光源到真空中的光学系统再到此过程中使用的反射镜的表面涂层,实际上,整个曝光技术都必须从头开发。


未来技术在工业系统中的应用


这三位候选人为EUV技术的发展和产业成熟做出了重大贡献,他们获得了2,000多项专利保护的技术,这是技术进步和日常生活数字化的基础。通快集团管理委员会副主席兼首席技术官PeterLeibinger说,“我们对获得德国未来奖的提名感到非常高兴。它再次验证了EUV技术在未来发展的潜力。这归功于通快与蔡司、弗劳恩霍夫研究所和ASML公司的合作。在这一未来技术方面,通快完全有信心与来自德国和欧洲、日本和美国的企业进行竞争,而世界上顶尖的制造微芯片的机器来自欧洲这一事实是我们共同撰写的传奇。这种独特合作的成功在于相互信任和持续努力。”


借助世界上目前强大的脉冲工业激光器,通快为当下每一部智能手机中使用的现代的微芯片提供了关键组件。除了提供EUV光刻所需的光之外,该激光器目前没有其他更为经济的应用。Leibinger对此评价道:“目前,只有通快能够提供EUV光刻所需的激光器。没有这些激光器,就无法实现诸如人工智能或自动驾驶这样的未来技术,因为它们需要大量的计算能力。在这种情况下,会获得提名也是实至名归。在激光器诞生60周年之际,2020年德国未来奖的提名再次凸显了激光这种工具对于德国作为工业基地的重要性。”


“我们非常荣幸能与合作伙伴一起获得提名,这是一项极其复杂的开发工作,该技术将被转化为主导全球市场的技术。”蔡司集团管理董事会成员兼半导体制造技术部门负责人MarkusWeber博士继续说:“蔡司代表着出色的光学性能和精度,这一直是芯片生产的关键因素。EUV技术及反射式光学系统是一种跨越式的创新,需要创意和毅力才能从构思发展到今天的系列生产,照明系统的质量和形状以及投影光学系统的分辨率决定了微芯片上的微小结构。EUV持续推动商业和社会数字化领域的重大进步。很荣幸能与我们的战略合作伙伴ASML、通快和弗劳恩霍夫一起为此做出贡献。”


基本创新还取决于反射镜,即使是最小的不规则性也会导致成像错误,因此EUV光刻技术还需要世界上“最精确”的反射镜,弗劳恩霍夫是反射镜镀膜技术的重要研究合作伙伴。


“弗劳恩霍夫是半导体技术的先驱之一。我们的研究所和机构已经在EUV光刻领域进行了30年的研究探索。我们的研究人员在首批EUV反射镜和光束源的开发中发挥了重要作用,为这项技术的突破奠定了基础。”弗劳恩霍夫研究所ReimundNeugebauer教授解释说:“得益于科学研究与工业应用之间的长期紧密合作,我们已成功实现了在这一创新领域的广泛应用。EUV光刻是可以通过合作、研究精神和信守承诺等方式来实现技术和经济附加值的杰出典范。”


创新工程和科学成就奖


德国未来奖(DeutscherZukunftspreis)自1997年诞生以来,每年颁发一次,是德国最重要的科学奖项之一。该年度奖项旨在表彰在科学领域取得突破性成果并实现这些新科学成果后续工业应用的创新团队。评审团每年从大量项目中选出三个研究团队,进入该奖项最后一轮进行角逐。除了创新表现,评审团还将评估经济和社会潜力。该奖项将于2020年11月25日在柏林由联邦总统弗兰克-瓦尔特·斯坦米尔(Frank-WalterSteinmeier)颁发。


转载请注明出处。

免责声明

① 凡本网未注明其他出处的作品,版权均属于hth官方 ,未经本网授权不得转载、摘编或利用其它方式使用。获本网授权使用作品的,应在授权范围内使 用,并注明"来源:hth官方 ”。违反上述声明者,本网将追究其相关责任。
② 凡本网注明其他来源的作品及图片,均转载自其它媒体,转载目的在于传递更多信息,并不代表本媒赞同其观点和对其真实性负责,版权归原作者所有,如有侵权请联系我们删除。
③ 任何单位或个人认为本网内容可能涉嫌侵犯其合法权益,请及时向本网提出书面权利通知,并提供身份证明、权属证明、具体链接(URL)及详细侵权情况证明。本网在收到上述法律文件后,将会依法尽快移除相关涉嫌侵权的内容。

网友点评
0 相关评论
精彩导读
Baidu
map