高光束质量大功率半导体激光熔覆系统功率范围涵盖1000-4000w,采用国内首创的高光束质量大功率半导体激光器作为核心激光设备,该系统的半导体激光光束经特殊处理为平顶分布的矩形结构,在熔覆领域优于光斑模式呈圆形的近高斯分布的光纤激光器、固体激光器,CO2激光器,具有熔覆效率高、速度快、能耗低、熔覆层深度分布均匀,热影响区小的优点,可实现大面积光斑的快速激光熔覆、广泛应用于矿山机械、石油化工、发电站设备、航空冶金、工业模具等行业。
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hth官方 通讯员来源:未知2012-03-01我要评论(0)
高光束质量大功率半导体激光熔覆系统功率范围涵盖1000-4000w,采用国内首创的高光束质量大功率半导体激光器作为核心激光设备,该系统的半导体激光光束经特殊处理为平顶...
高光束质量大功率半导体激光熔覆系统功率范围涵盖1000-4000w,采用国内首创的高光束质量大功率半导体激光器作为核心激光设备,该系统的半导体激光光束经特殊处理为平顶分布的矩形结构,在熔覆领域优于光斑模式呈圆形的近高斯分布的光纤激光器、固体激光器,CO2激光器,具有熔覆效率高、速度快、能耗低、熔覆层深度分布均匀,热影响区小的优点,可实现大面积光斑的快速激光熔覆、广泛应用于矿山机械、石油化工、发电站设备、航空冶金、工业模具等行业。
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